脉冲激光薄膜沉积系统


技术指标:

工作气体 KrF;输出最大单脉冲能量 400mJ;输出波长 248 nm; 重复频率:1-20Hz;样品常用温度 850℃,最高可达900℃,安装红外测温仪监测样品温度;真空度≦5X10-6Pa,可在氧气氛围下生长,最高生长氧压为5Pa。具有主腔和副腔,在副腔中更换样品,以保证主腔的高真空度。


仪器功能:

脉冲激光薄膜沉积系统可精确控制纳米尺寸的氧化物薄膜的生长。通过控制电柜实现自动和手动控制,可实现高温下生长。


放置地点:强磁场中心二楼208室

仪器管理员:李柏霖   联系电话: 138 1586 3766   邮箱: lbl@hmfl.ac.cn