脉冲激光薄膜沉积系统01

技术指标：

      工作气体 KrF；输出最大单脉冲能量 400mJ；输出波长 248 nm； 重复频率：1-20Hz；样品常用温度 850℃，最高可达900℃，安装红外测温仪监测样品温度；真空度≦5X10-6Pa，可在氧气氛围下生长，最高生长氧压为5Pa。具有主腔和副腔，在副腔中更换样品，以保证主腔的高真空度。

仪器功能：

      脉冲激光薄膜沉积系统可精确控制纳米尺寸的氧化物薄膜的生长。通过控制电柜实现自动和手动控制，可实现高温下生长。

放置地点：强磁场中心二楼208室          仪器管理员：刘鑫宇 

邮箱： xyliu@hmfl.ac.cn                         联系电话： 183 2558 8721